製品紹介

半導体・MEMS洗浄製造装置

弊社では、半導体業界で長年培ってきたノウハウを活かし、MEMS、化合物半導体あるいはガラス基板へのフォトリソの特殊用途など、 幅広い装置をご提供いたします。バッチ式、スピン方式、枚葉コンベア方式にそれぞれ対応し、ワークの材質、サイズ、形状、処理量、薬液種、用途、 ご予算などに応じてお客様に最適な設備をご提案いたします。
洗浄・レジスト塗布・ベーク・現像・エッチング・剥離・リフトオフといったプロセスにそれぞれカスタマイズ対応いたします。

バッチ式装置

半導体・MEMS洗浄製造装置 縦型チューブ洗浄装置 ダミーウェーハ再生装置

縦型チューブ洗浄装置
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  • 1.ムラなく洗浄
    ・内側洗浄ノズル ・外側洗浄ノズル ・枝管洗浄ノズル 
    ・二重管内洗浄ノズル ・300φフォーミュラ照射位置移動ノズル ・360°回転エリア洗浄ノズルなど多彩なスプレイを装備しております。
  • 2.省力洗浄
    薬液:最少必要量 25L 新液秤量タンクと回収保存タンクを装備しております。
横型チューブ洗浄装置
自動エッチング装置
自動洗浄装置
大型基板用エッチング装置
ダミーウェハー再生装置
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スピン方式装置

スピンコーター
スピン洗浄装置
スピン現像装置
スピンエッチング装置
スピンリフトオフ装置

枚葉コンベアー方式装置

枚葉式洗浄装置
枚葉式現像装置
枚葉式エッチング装置

各種実験用装置

マニュアルドラフト
卓上スピンコーター
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セミオートベイク装置
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ホットプレート